紫外光廢氣凈化設(shè)備特點(diǎn)：

1.能迅速有效地殺滅各種細(xì)菌、病毒等微生物；
2.通過(guò)光解作用，能有效降解空氣中異味氣體；
3.操作簡(jiǎn)單，維護(hù)方便；
4.占地面積小，處理風(fēng)量大；
5.無(wú)污染，環(huán)保性強(qiáng)，不會(huì)產(chǎn)生毒副作用；
6.投資成本低，運(yùn)行費(fèi)用低，設(shè)備安裝方便；
7.利用光學(xué)原理設(shè)計(jì)了*的裝置處理工藝，使空間內(nèi)得以zui大限度地利用紫外線(xiàn)光催化反應(yīng)，使殺菌效果成倍提高。納米光氫離子CHO91G凈化裝置。　

紫外光廢氣凈化設(shè)備應(yīng)用：

應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。

產(chǎn)品技術(shù)簡(jiǎn)介

1、本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

2、利用高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。UV＋O2→O-O＊(活性氧)OO2→O3(臭氧),*臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

3、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。

4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的．

它具有適應(yīng)性強(qiáng)、運(yùn)行成本低、設(shè)備占在面積小等特點(diǎn)，應(yīng)該應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。